1,为什么要镀膜

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之所以要从镜头镀膜开始探究手机的镜头知识,是因为近年来在蓝厂的超大宣传力度加持下,蔡司镀膜的超牛程度早已深入人心,同时还逼得小米和绿厂也开始卷起了主摄镀膜。

但是镀膜这玩意,若单单冠个蔡司的名头大众普遍还能理解,毕竟就算不说光刻机那么高端的领域,单说相机镜头领域和**镜片领域那蔡司也是神一般的存在。

这时候,如果加个 T* 的标识,估计很多人就不知道这啥意思了;接着若再像下面蓝厂PPT那样,将一堆有着专业名词的镀膜技术列出来,那么“我是谁”等哲学三问就跟着出来了......

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不过,这堆镀膜技术还是留待下面部分的小节再作详解,这小节先来说说为啥镜头要镀膜,而要说这个就得先说说“鬼影”这烦人的影像创作干扰。

蔡司解释:“鬼影”来源于镜头内多枚镜片表面的多次光线反射,从而让照片发白或者形成光环、光晕,所以要解决这个问题就得降低镜片反射率。

为了达成这一目的,蔡司先是在1930年发明了被标记为 T 的单层镀膜;后面又在1950年代首次将被标记为 T* 的蔡司多层镀膜,应用在镜头产品上。

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所以,蔡司 T* 镀膜只是一个两层或多层镀膜的总称,其所对应的产品具体有多牛还得看到底用了啥镀膜技术。

另外,由于光学镀膜的性能取决于层数、厚度和不同层之间的折射率差异,所以这时候应用镀膜的镜片材质就非常重要了——玻璃镜片这种光学性能优异且耐高温的材质就是上选!

此外,从光学镀膜性能的这些影响因素也可以知道,其光学设计门槛极高!所以蓝厂又跟蔡司续约以求共同进步了。

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2,蔡司T*镀膜解析

1,IRCF 色素旋涂——在 X60 Pro+ 那代国内首家应用,通过旋涂工艺解决了色素与蓝玻璃的附着力问题,从而得以吸收在滤光片之间反复“跳跃”的红光,明显改善了花瓣鬼影现象。

2,SWC 亚波长结构镀膜——该技术在 X70 Pro+ 那代首发,应用了蛾眼楔形仿生技术,覆盖于盖板保护玻璃(就是手能摸到的那层)内侧,从而将反射率从0.8%巨幅下降至0.1%!

3,ALC 亚波长纳米结构镀膜——在 X90 Pro+ 那代首发,在 SWC 的多层镀膜基础上增加了纳米级微结构,并采用了高级镀膜工艺,从而得以用在7枚塑料镜片这种不平整表面上。

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4,Multi-ALD 镀膜——X100 Pro 首发,将原子层沉积工艺与包含纳米柱、纳米手性结构的纳米晶体技术结合,并拓展为多层镀膜,故镜片中心折射率低至0.1%(用于玻璃镜片)!

5,超硬 AR 镀膜——这也是 X100 Pro 首发的,是用在盖板保护玻璃外侧的特殊镀膜,所以其特点除了超低反射率之外,还拥有硬度超高可防被刮花的特性。

6,GLC 纳米涂层——最后这个就是 X100 Ultra 首发的镀膜技术了,其特点是可凭借膜层随厚度而变化的渐变光学性质,在保证低反射率之基础上解决微结构带来的发蒙问题。

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综上所述,可以看到灭霸主摄在内部的一枚玻璃镜片和七枚塑料镜片之正反面,全都覆盖了具备不同光学功能性之蔡司 T* 镀膜,整体的光学设计难度实在令人大开眼界!

更绝的是蓝厂还在外部盖板保护玻璃之正反面,也分别应用了超硬 AR 镀膜和 SWC 镀膜,顺带还能让超广角镜头和潜望镜头享受到相关好处!所以灭霸这两颗镜头压高光也很牛。

至于这次主摄镜组新引入的 GLC 镀膜——用在了第三枚塑料凸透镜片上,则直接帮助蓝厂同时解决了鬼影和发雾这两个本来不兼容的光学问题,实际疗效就是“更纯净”。

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3,镀膜工艺简介

上面那些镀膜技术从名称中可得知的镀膜工艺,只有“色素旋涂”和“ALD”这两种,实际上其中还用到了一种 PVD 镀膜工艺,下面便讲清楚这三者的区别。

A,色素旋涂工艺——为了解决色素覆盖均匀度的问题,蓝厂通过降低色素由中心向边缘扩散的速度,从而克服了不能有但凡一丁点小凹坑的高难度工艺要求。

B,PVD 工艺——其全称为 Physical Vapor Deposition(物理气相沉积),通过将材料气化并在真空或低压环境中沉积于基材表面,拥有众多技术分支。

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C,ALD 工艺——全称为 Atomic Layer Deposition(原子层沉积),是一种通过交替引入反应前驱体和共反应物在基材表面进行自限制反应,从而形成原子级薄膜的先进镀膜技术。

可以看出 PVD 工艺和 ALD 工艺最大的不同就是,前者为连续的物理过程而后者则为非连续的化学过程,所以 ALD 工艺的沉积时间很长且生产成本很高。

既然 ALD 本身生产劣势就很明显了,那么 Multi-ALD 这种多层工艺的生产时间和成本自然也是水涨船高!另外,基于蓝厂到 X100 Pro 这代才上这个工艺之情形,其难度也可见一斑。

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PVD 工艺这边,由于 SWC 镀膜是在盖板玻璃的平整内侧,故只需“真空蒸发”这种最普通技术即可;而超硬 AR 镀膜则是用在带有弧度的盖板玻璃外侧,所以需要采用“磁控溅射”技术。

接下来的“等离子溅射”技术是“磁控溅射”的小改版本,可在低气压、低电压、大电流条件下进行溅射,所以完美平衡了镀膜性能、沉积时间、生产成本,可谓是 ALC 镀膜的绝配。

而像 GLC 镀膜这种拥有特殊膜层结构的高难技术,实际就是 PVD 工艺中成本最高的“离子束溅射”技术之作,其拥有最高的精度、最复杂的涂层设计,同时还可提供优秀的微观结构。

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总结:

蓝厂在镜头镀膜这块既然卷得那么厉害,机圈对手自然也不敢懈怠,例如小米超大杯主摄就用上了 ALD 镀膜和 IRCF 色素旋涂这两个技术。

但是,这两个镀膜技术是蓝厂早在 X70 Pro+ 那代就已经用上的,再结合小米旗舰在压高光方面较蓝厂旗舰的明显差距,蓝厂在镀膜造诣方面之功力就可见一斑了!

另外,像华为和三星这种从来不透露后置镜头配置的大厂,却在压高光表现方面比小米14 Ultra更强!所以这两者的镜头镀膜配置绝对不简单。

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END

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